Síntesis de películas de óxido de cerio/grafeno

Abstract

The new industrial and technologic requirements have driven the enhancement of conventional materials, one new proposal is the decoration of surface with the aim to achieve a better dispersion and using the physical properties of both material. Throughout achievement the present project graphene films were synthesized by means of chemical vapor deposition (CVD) and low pressure chemical deposition (LPCVD) which were decorated with ceria through physical vapor deposition (PVD) and R.F. Sputtering. The produced films were characterized and analyzed by SEM/EDS, Raman Spectroscopy and XPS. Results allow establish that was possible to synthesize thin films graphene to achieve ceria deposition on graphene surface; by means of PVD and R.F. Sputtering. The latter being the more effective method reaching higher deposition rates and dispersion. The synthesized films could be used in multiple industrial applications as gas sensors or catalyst surfaces.

Los nuevos requerimientos industriales y tecnológicos han impulsado la mejora de los materiales usados convencionalmente, una de las propuestas son los depósitos superficiales o decorados buscando una mejor dispersión y aprovechamiento de las propiedades de ambos materiales. A través de la consecución del presente proyecto se sintetizaron películas de grafeno a partir de depósito químico en fase vapor a baja presión (LPCVD por sus siglas en inglés) y presión atmosférica (CVD por sus siglas en inglés) con depósitos de óxido de cerio superficiales mediante el proceso de depósito físico de vapor (PVD por sus siglas en inglés) y depósito por erosión iónica (R.F. Sputtering). Las películas resultantes fueron caracterizadas y analizadas mediante microscopía electrónica de barrido, espectroscopia raman, y espectroscopia de fotoelectrones por rayos x (XPS por sus siglas en inglés). Como resultado de este proyecto se establece que fue posible preparar películas de grafeno mediante un sistema experimental desarrollado para tal propósito. Se logró realizar el depósito de óxido de cerio sobre grafeno a través de las técnicas de PVD y R.F. Sputtering; siendo este último el método más efectivo para obtener mayores tasas de depósito y una mejor dispersión. Las películas así preparadas podrían ser empleadas en diversas aplicaciones tales como los sensores de gases o catalizadores.